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sábado, 24 de janeiro de 2009

PATTERN WW, Quando menos é MAIS!


Ultimamento não tinha ficado satisfeito com o patterns WW da Artech.  Mas consegui ficar satisfeito com o SDK do EVL1/ GX  X , que nos permite criar nosso próprio Pattern.

Vejam as alterações feitas por mim no pattern original da Artech.





Um pattern que gere na instância apenas um objeto, sendo mais rápido durante o build all, afinal , não gera objetos desnecessários.










 Uma instância simples, apenas com o grid de seleção, nada de Abas.. agilizando a aplicação default durante os builds/salvamento.

E acrescentando nos atributos de selação apenas os atributos PK e Description.






Geração automática de regras de auditoria campo a campo.

Quem faz na mão no Gx sabe a trabalheira que dá.






Aqui será fácil implementar automaticamente os famosos campos Multi_empresa, (&Emp_Cod) em todas as trns/condições dos grids, automatizando e muito os serviços padrões(pattern) dos programadores iniciantes.


Por ai vai.. agora dará para modificar muita coisa no comportamento do Genexus.  Bastaria a Artech nos colocar um manual passo a passo de como acessar as propriedades dos modelos,  propriedades dos objetos do GX, geração de objetos na KB em tempo de execução, pesquisa de objetos na KB, acesso a janela de output.

Sei que temos os projetos open source do Assembla ( que já me ajudram e muito ) , temos o gxopen, o wiki e os exemplos do SDK. Isto será um grande passo. Mas o correto é a Artech lançar um manual de referência dos métodos , propriedades e das tabelas internas da KB do GX.

Poderíamos implementar muita coisa do tipo .. importação e exportação do conteúdo da base de conhecimento, ao estilo dos nossos sistemas de metadados do BI, de BSC, integração com GIS.

Isto nos facilitaria e muito personalizar o GX conforme nossas necessidades.

Abraço a todos e bom começo de ano!




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